光刻胶
光刻胶是在半导体和印制电路板上设计高密度、高集成电路时使用的感光树脂。为曝光（Lithography）工艺的核心材料。
详细信息：
PAR系列（ArF）
PEK系列（KrF）
PFI系列（i线）
PXi系列（厚膜光刻胶）
光刻胶是在半导体和印制电路板上设计高密度、高集成电路时使用的感光树脂。
光刻胶能对特定波长的光作出反应，引起化学变化。再利用物理性/化学性的变化，使特定的Pattern转写的高分子化合物。
光刻胶是用于曝光（Lithography）工艺的核心材料。
住友化学的光刻胶产品线丰富，可对应i线、KrF准分子激光、ArF准分子激光、液浸式ArF准分子激光、电子束等各种曝光工艺，与此同时不断追求更高的性能。
i线用光刻胶产品类型齐全，可匹配各种用途；先进工艺的液浸式ArF光刻胶可配合客户的研发速度，提供兼具品质稳定性和超高分辨性能的产品，为半导体元件的发展作出贡献。
此外，我们还提供各种新用途的高性能、高品质产品。如日益高集成/大容量化的三维闪存生产及半导体元件封装工艺中使用的厚膜光刻胶等。同时，我们可对应下一代先进生产工艺的EUV光刻胶已研发成功并量产。