半导体用化学品
包括:过氧化氢、硫酸、氨水、异丙醇(IPA) 在半导体制造中被广泛应用于硅晶片的洗清。
详细信息:


随着半导体工艺的多样化和高功能化,在先进工艺中使用的高纯度化学品的性能和品质要求也逐年提高,我们凭借技术经验以及先进的自动生产质控系统和完备的防污染设备,能切实地对应客户要求。
产品名称 | 用途 |
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主要用于硅晶片清洗和蚀刻,有效去除晶片上的杂质颗粒,无机残留物和碳沉积物。 | |
与氨水,DI纯水混合分别用来氧化和微蚀刻去除硅晶表面的颗粒和金属,有机杂质。 | |
与双氧水的混合物去除硅片抛光中清洗颗粒物。 | |
去除硅晶表面的有机物以及水分。 |